定制的5头RF等离子磁控溅射镀膜机，用于MGI薄膜研究

• 5个磁控溅射枪，可用于5种不同的靶材
• 根据所使用的电源（RF或DC），可以沉积金属和非金属材料。 
• 能够溅射5种靶材以通过不同的溅射时间/速率产生各种成分
• 使用可选的5个电源，  可以同时溅射5种靶材，以进行组合溅射
• 可以使用掩模和旋转样品架分批沉积16个样品

• 单相220 VAC，50/60 Hz
• 1000 W（包括真空泵和冷水机）

• 随附一台13.5 MHz，300 W自动匹配RF发生器并将其连接到溅射头
• 可旋转开关可以一次激活一个溅射头。可以在多层工艺中在不破坏真空的情况下“在等离子体中”切换溅射头。
• 多个RF电源是可选的，允许用户同时溅射多靶材以进行组合溅射
• 带有控制软件的笔记本电脑需要额外付费才能控制每个RF喷枪的溅射时间和功率

• 您可以选择用于金属靶溅射的直流电源
• 使用五个DC或RF电源，可以同时溅射5种靶材以进行组合溅射

磁控溅射头

• 包括五个带水冷套的1“磁控溅射头（单击Pic＃1了解详细信息），并通过快速夹具插入石英室
• 可以在MTI购买更换射频电缆（有关详细信息，请单击图片＃2 ）
• 法兰上装有一个手动操作的百叶窗（请参阅图3）    
• 包括一个10 L / min的数控循环水冷却器，用于冷却溅射头（单击Pic＃4  了解详细信息）

  （1）

  （2）

  （3）

  （4）

溅射靶

• 目标尺寸要求：1英寸直径x 1/8英寸*大厚度
• 溅射距离范围：50 – 80 mm可调
• 溅射角度范围：0 – 25°可调 
• 包括1“直径的铜靶和Al ₂ O ₃  靶，用于演示测试
• 可应要求提供各种氧化物的1“溅射靶材，但需额外付费
• 对于目标键合，包括1毫米和2毫米的铜垫板。可以在MTI订购环氧银（Pic＃1）和额外的铜垫板（Pic＃2）

• 真空室由带加强筋的304不锈钢制成 
• 内部真空室尺寸：  470毫米长×445毫米深×522毫米高   （〜105升，18.5“ x17.5” x 20.5“）
• 圆形380毫米直径 带150毫米直径玻璃窗的铰链式门
• 温度范围：-15至150°C
• 真空度：  涡轮泵为4.0E-5 torr

样品架

• 直径150毫米的可旋转样品架，可一次涂覆16种样品，组成不同
• 样品架和面罩的旋转可以通过按钮手动控制，也可以通过控制软件自动控制（可选）
• 样品架温度可在RT至*大600°C范围内调节 

• 内置KF40真空端口，用于连接真空泵。
• 随附紧凑型涡轮泵（单击左侧图片查看规格）
• 带可选涡轮泵的4.0E-5 Torr   （单击下面的图片）   

• 精密石英厚度传感器是可选的（有关详细信息，请单击Pic＃1）。它可以内置在腔室中，以0.1Å的精度监控涂层厚度（需要水冷） 
• 易于通过USB连接到PC进行远程厚度和涂层速度监控
• 包括5个石英传感器（消耗性） 
• 

净重

• 60公斤

合规

• CE认证
• 可应要求提供MET认证（UL 1450），但需要额外收费，请联系我们的销售代表以获取报价。 

保证 

• 一年有限保修，提供终身支持 

应用须知
  

• 这款紧凑的1英寸RF磁控管溅射镀膜机设计用于在通常不需要高真空设置的氧化物单晶衬底上涂覆氧化物薄膜
• 为了**使用，应在气瓶上安装两级压力调节器（不包括），以将气体的输出压力限制在0.02 MPa以下。请使用> 5N纯度的Ar气体进行等离子溅射
• 为了获得*佳的薄膜与基材的粘合强度，  请  在涂覆前清洁基材表面  ：
• 用以下连续浴进行超声波清洗（单击Pic＃1进行订购）-（1）丙酮，（2）异丙醇-除去油和油脂。用氮气吹干基材，然后在真空中热烘烤以除去吸收的水分
• 表面粗糙化，表面化学键活化或其他污染物去除可能需要等离子清洁（单击Pic＃2进行订购）
• 可以使用诸如Cr，Ti，Mo，Ta之类的薄缓冲层（〜5 nm）来提高金属和合金的附着力

• 为了获得*佳性能，非导电靶必须安装有铜垫板。请参考下面的指导视频（＃3）进行目标键合
• MTI提供从A到Z的单晶衬底（单击Pic＃4进行订购） 
• MTI RF等离子溅射镀膜机已成功在500°C的Al ₂ O ₃衬底上涂覆ZnO （图5中的XRD曲线）
• 用EQ-MBT-12-LD心轴弯曲测试仪测试薄膜/涂层电*的柔韧性  。（有关详细信息，请单击Pic.6。）
• 高压！溅射头连接到高电压。为了**起见，操作人员必须在样品加载和目标改变操作之前关闭RF发生器。
• 请勿在冷水机中使用自来水。与水一起使用冷却液，去离子水，蒸馏水或抗腐蚀添加剂

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