VTC-600-3HD-LD是具有 三个2英寸磁控溅射源和三个RF / DC电源的 组合式等离子体溅射系统。这种溅射系统能够共溅射多达三种不同的目标材料,并在整个基底上形成各种成分分布(例如,用于锂离子可充电电池的三元材料)。该系统还适用于顺序涂覆多层膜,例如铁电体,合金,半导体,陶瓷,电介质,光学,氧化物,硬质,PTFE等。
磁控溅射头
真空室
样品台
气体流量控制
外形尺寸
盖子关闭:48“ ×28” ×32“盖子打开: 48” ×28“×37”
涂布机净重
运输重量和尺寸
合规
保证
操作指令
应用说明