VTC-600-2HD-LD是一种紧凑的磁控溅射系统,具有两个2“目标源,例如,一个DC源用于涂覆金属膜,另一个RF源用于涂覆非金属材料。该涂覆系统设计用于同时涂覆两种适用于多种材料的单层或多层膜,例如合金,铁电材料,半导体,陶瓷,电介质,光学材料,PTFE等。 (自2015年9月25日起修订。不包括薄膜厚度监视器。)
磁控溅射头
真空室
样品台
气体流量控制
外形尺寸
盖子关闭:48“ ×28” ×32“盖子打开: 48” ×28“×37”
涂布机净重
运输重量和尺寸
合规
保证
操作指令
应用笔记Pic 1 Pic 2