VTC-3RF是一款三头1英寸RF等离子磁控溅射系统,设计用于非金属薄膜涂层,主要用于多层氧化物薄膜。它是研究新一代氧化物薄膜的*具成本效益的涂层机。DC可根据要求提供磁控溅射选件,用于金属膜沉积,可实现三个DC,一个RF /两个DC和两个RF /一个DC溅射头配置。
磁控溅射头
溅射靶
样品架
尺寸
净重
合规
保证
操作指令
应用须知