2“ RF等离子磁控溅射镀膜机，用于非导电薄膜

• 220 VAC，50 / 60Hz，单相
• 800 W（包括泵）
• 如果电压为  110 VAC，则需要1000 W的变压器，请单击左图订购

• 一个13.5兆赫，300瓦的RF  发生器，提供自动匹配功能内置于机壳和连接到2"溅射头 （点击图片向左看详细规格）
• 可选：直流溅射电源可用于涂覆金属材料 
•  射频电源                直流电源可选

磁控溅射头

• 一个2"  与水冷却夹套磁控溅射头被包括并且经由快速夹具插入到石英腔（点击产品图。 左1看详细规格）
• 法兰上装有一个百叶窗（手动操作）
• 需要一台16升/分钟的数控循环水冷却器来冷却磁控溅射头（如果没有，请单击右图3进行  订购）
• 1英寸溅射头是可更换的，并且可选，但要额外付费（请单击右图2进行订购）
• 可以替换148厘米的射频电缆，但需要支付额外费用（点击右图1进行订购）

               

   

  

溅射靶

• 目标尺寸要求：2英寸直径x 1/4英寸*大厚度
• 演示测试包括一个铜靶（直径2英寸x 3毫米t）。
• Al2O3陶瓷靶材   推荐涂覆方法
• 可根据要求提供可选的2英寸溅射靶（带背板），但需额外付费。

真空室

• 真空室：外径160毫米x内径150毫米x高度250毫米。由高纯度石英制成
• 密封法兰：直径165 mm。铝制成，带有高温硅胶O形圈
• 随附的不锈钢网罩可100％屏蔽来自腔室的RF辐射
• 真空度：带有双级机械泵的1.0E-2 Torr和带有可选涡轮泵的1.0E-5 Torr

样品架

• 样品架可旋转且可加热，由带不锈钢盖的陶瓷加热器制成
• 样品架尺寸：直径50 mm。*多2“晶圆
• 旋转速度可调：1-10 rpm，以获得均匀的涂层
• 支架温度可通过数字温度控制器在RT至*大500°C范围内调节，精度为+/- 1.0  ° C。
• 根据要求可提供800-1000ºC加热样品架。
• 可选的振动样品架可用于动力PVD涂层。（下面的图片3）
•   射频粉末涂料

• KF25真空端口是内置的，用于连接真空泵。
• 需要带有KF25适配器的真空泵，但不包括在内。.  请单击图片单独订购。
• 真空度：双级机械泵为   1.0E-2托，涡轮泵为1.0E-5托

               

• 精密石英厚度传感器是可选的（请单击下面的Pic1进行订购），可以将其安装在腔室内，以0.10Å的精度监控涂层厚度。需要笔记本电脑才能显示厚度
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外形尺寸

净重

• 70公斤

保修与合规

• 一年有限保修，提供终身支持
• CE认证
• NRTL认证暂时不可用。

操作指令

应用须知

• 这种紧凑的2英寸RF磁控溅射镀膜机设计用于在通常不需要高真空设置的氧化物单晶衬底上涂覆氧化物薄膜
• 请使用> 5N纯度的Ar气体进行等离子溅射
• 为了获得*佳的薄膜与基材的粘合强度，  请  在涂覆前清洁基材表面  ：
• 用以下连续浴进行超声波清洗（单击Pic＃1进行订购）-（1）丙酮，（2）异丙醇-除去油和油脂。用氮气吹干基材，然后在真空中热烘烤以除去吸收的水分
• 表面粗糙化，表面化学键活化或其他污染物去除可能需要等离子清洁（单击Pic＃2进行订购）
• 可以使用诸如Cr，Ti，Mo，Ta之类的薄缓冲层（〜5 nm）来提高金属和合金的附着力
• 为了获得*佳性能，非导电靶必须安装有铜衬板。请参阅以下说明视频（＃3）了解目标绑定
• MTI使用镀膜机成功地在500°C的 Al ₂ O ₃ 基体上涂覆了ZnO （图5中的XRD曲线）
• 请勿在冷水机中使用自来水。使用去离子水，蒸馏水或抗腐蚀添加剂作为色浆。

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